Modeling the process dependence of electrical charges associated with the silicon/silicon-dioxide interface /
Сохранить в:
Главный автор: | |
---|---|
Формат: | Диссертация |
Язык: | English |
Опубликовано: |
Ann Arbor, MI :
University Microfilms International,
c1987.
|
Предметы: |
CARM 1 Store
Шифр: |
A1:AN09F0 C09696 |
---|---|
Копировать 1 | Доступно Поместить задолженность |