Oxides and oxide films.

Guardat en:
Dades bibliogràfiques
Autor principal: Diggle, John W.
Altres autors: Vijh, Ashok K.
Format: Llibre
Idioma:English
Publicat: New York, M. Dekker, 1972-<c1981 >
Col·lecció:The Anodic behavior of metals and semiconductors series
Matèries:

CARM 1 Store

Detall dels fons de CARM 1 Store
Signatura: A2:AE17E0 C00204
Còpia 1 Disponible  Fer una reserva
Còpia 2 Disponible  Fer una reserva