Photoelasticity : proceedings of the international symposium held at Illinois Institute of Technology, October 1961 /

Պահպանված է:
Մատենագիտական մանրամասներ
Համատեղ հեղինակներ: International Symposium on Photoelasticity Chicago, Illinois Institute of Technology
Այլ հեղինակներ: Frocht, Max Mark
Ձևաչափ: Գիտաժողովի նյութեր Գիրք
Լեզու:English
Հրապարակվել է: Oxford : Pergammon, 1963.
Խորագրեր:
Նկարագրություն
Նյութի նկարագրություն:Sponsored by U.S. Army Research Office, National Science Foundation and Illinois Institute of Technology.
Ֆիզիկական նկարագրություն:xxi, 294 p. : ill. ; 24 cm.
Մատենագիտություն:Includes bibliographies.