Photoelasticity : proceedings of the international symposium held at Illinois Institute of Technology, October 1961 /

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Detalles Bibliográficos
Autores Corporativos: International Symposium on Photoelasticity Chicago, Illinois Institute of Technology
Otros Autores: Frocht, Max Mark
Formato: Procedimiento de la Conferencia Libro
Lenguaje:English
Publicado: Oxford : Pergammon, 1963.
Materias:
Descripción
Notas:Sponsored by U.S. Army Research Office, National Science Foundation and Illinois Institute of Technology.
Descripción Física:xxi, 294 p. : ill. ; 24 cm.
Bibliografía:Includes bibliographies.