Photoelasticity : proceedings of the international symposium held at Illinois Institute of Technology, October 1961 /

محفوظ في:
التفاصيل البيبلوغرافية
مؤلفون مشاركون: International Symposium on Photoelasticity Chicago, Illinois Institute of Technology
مؤلفون آخرون: Frocht, Max Mark
التنسيق: وقائع المؤتمر كتاب
اللغة:English
منشور في: Oxford : Pergammon, 1963.
الموضوعات:
الوصف
وصف المادة:Sponsored by U.S. Army Research Office, National Science Foundation and Illinois Institute of Technology.
وصف مادي:xxi, 294 p. : ill. ; 24 cm.
بيبلوغرافيا:Includes bibliographies.